| 可能原因 | 排查步驟 | 解決方案 |
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端面污染或損傷 | 1、顯微鏡觀察端面是否有劃痕或顆粒。 2、紅外相機(jī)檢查光斑是否畸變。 | 1、等離子清洗(O?/Ar混合氣體)。 2、重新拋光端面(8°斜角拋光)。 |
模場(chǎng)嚴(yán)重失配 | 1、仿真對(duì)比光纖與波導(dǎo)的模場(chǎng)尺寸(MFD)。 2、近場(chǎng)掃描實(shí)測(cè)模場(chǎng)重疊度。 | 1、添加錐形波導(dǎo)擴(kuò)展模場(chǎng)。 2、使用模場(chǎng)轉(zhuǎn)換器(如SiN過渡層)。 |
未對(duì)準(zhǔn)(X/Y/Z/角度) | 1、紅外相機(jī)觀察光斑偏移。 2、六軸位移臺(tái)微調(diào)時(shí)監(jiān)測(cè)功率變化。 | 1、主動(dòng)對(duì)準(zhǔn)算法(如爬山法)。 2、設(shè)計(jì)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記(十字/光柵) |
反射損耗未抑制 | 1、測(cè)量回波損耗(OTDR或光環(huán)形器) | 1、鍍抗反射膜(如λ/4 SiN膜)。 2、端面斜切(8°~10°)。 |